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唐山电子半导体超声波清洗机价格

时间:2021-10-07 06:23

  8.逆变电源,进口IGBT元件,安装过流保护线.超声波清洗机所用的清洗剂多为液体洗涤剂,组成模式为:表面活性剂、赘合剂、其他助剂,还有其它有机溶剂如三氯乙烯。

  11.某物质当其溶于水即使浓度很小时,能显著降低水同空气的表面张力,或水同其他物质的界面张力,则该物质称为表面活性剂。水溶性表面活性剂的分子结构都具有不对称的、极性的特点.

  1.我们所说的超声波清洗机,是指清洗机在清洗工作时用人的耳朵听不到任何声音。正常人的听力可以听到20-20000赫兹(HZ)的声波,一旦低于20赫兹的声波就可以称为次声波或亚声波,一旦超过20000赫兹的声波,就可以称为超声波。

  2.超声波清洗机和其他清洗机比较而言,其优点就是不产生噪声污染。这种清洗机不但有普通清洗机的所有功能,而且还有其自身的突出特点。在工业清洗中,特别是在无噪声污染的清洗条件下,其用途是非常广泛的。超声波清洗技术,就是采用超声波的空化作用对物体表面上的污物进行撞击、剥离,以达到清洗目标。此种清洗机不但清洗速度快,而且其清洗效率也是非常高的,特别是对盲孔或者各种几何状物体,其独有的清洗方法是其他清洗方法所不能比拟的。

  3.超声波清洗机又是高压清洗机发展研究的又一重大突破,其清洗效果不但好,而且其清洗也不会造成任何噪声污染,这种独具特色的清洗特点,必将为其迎来更为广阔的发展前景和更大的用武之地。

  4.在清洗小零件物品时,常使用网篮,由于网眼要引起超声衰减,要特别引起注意。当频率为28khz时使用10mm以上的网眼为好。

  5.水清洗液适宜的清洗温度为40-60℃,尤其在天冷时若清洗液温度低空化效应差,清洗效果也差。因此有部分清洗机在清洗缸外边绕上加热电热丝进行温度控制,当温度升高后空化易发生,所以清洗效果较好。当温度继续升高以后,空泡内气体压力增加,引起冲击声压下降,反应出这两因素的相乘作用。

  6.超声波清洗效果不一定与功率×清洗时间成正比,有时用小功率,花费很长时间也没有清除污垢。而如果功率达到一定数值,有时很快便将污垢去除。若选择功率太大,空化强度将大大增加,清洗效果是提高了,但这时使较精密的零件也产生蚀点,得不偿失,而且清洗缸底部振动板处空化严重,水点腐蚀也增大,在采用三氯乙烯等有机溶剂时,基本上没有问题,但采用水或水溶性清洗液时,易于受到水点腐蚀,如果振动板表面已受到伤痕,强功率下水底产生空化腐蚀更严重,因此要按实际使用情况选择超声功率。

  7.超声清洗频率从28kHz到120kHz之间,在使用水或水清洗剂时由空穴作用引起的物理清洗力显然对低频有利,一般使用28-40kHz左右。对小间隙、狭缝、深孔的零件清洗,用高频较好,甚至几百kHz。对钟表零件清洗时,用400kHz。若用宽带调频清洗,效果更良好。

  1.这要看已有的功率发生器电路是什么形式的,是不是有小改造的余地,例如:发现有将近失效的器件,特别是电解电容器,更换试试。用降压变压器的,加高次级电压试试等等。主要的挖潜途经是重调一下输出匹配。因为目前的超声清洗几乎都是采用串联谐振的工作方式。换能器用久了,参数有变化,而功率发生器的输出频率也会有变化,导致它们不匹配,偏离了输出的谐振点,重调一下肯定见效。

  2.要改动功率发生器电路形式,或者增加换能器等等,对于用户来讲有难度,也没必要.

  1.在半导体材料的制备过程中,每一道工序都涉及到清洗,而且清洗的好坏直接影响下一道工序,甚至影响器件的成品率和可靠性。由于ULSI集成度的迅速提高和器件尺寸的减小,对于晶片表面沾污的要求更加严格,ULSI工艺要求在提供的衬底片上吸附物不多于500个/m2×0.12um,金属污染小于1010atom/cm2。晶片生产中每一道工序存在的潜在污染,都可导致缺陷的产生和器件的失效。因此,硅片的清洗引起了人士的重视。以前很多厂家都用手洗的方法,这种方法人为的因素较多,一方面容易产生碎片,经济效益下降,另一方面手洗的硅片表面洁净度差,污染严重,使下道工序化抛腐蚀过程中的合格率较低。所以,硅片的清洗技术引起了人们的重视,找到一种简单有效的清洗方法是当务之急。介绍了一种超声波清洗技术,其清洗硅片的效果显著,是一种值得推广的硅片清洗技术。

  2.晶片表面层原子因垂直切片方向的化学键被破坏而成为悬空键,形成表面附近的自由力场,尤其磨片是在铸铁磨盘上进行,所以铁离子的污染就更加严重。同时,由于磨料中的金刚砂粒径较大,造成磨片后的硅片破损层较大,悬挂键数目增多,极易吸附各种杂质,如颗粒、有机杂质、无机杂质、金属离子、硅粉粉尘等,造成磨片后的硅片易发生变花、发蓝、发黑等现象,使磨片不合格。硅片清洗的目的就是要除去各类污染物,清洗的洁净程度直接决定着ULSI向更高集成度、可靠性、成品率发展,这涉及到高净化的环境、水、化学剂和相应的设备及配套工艺,难度越来越大,可见半导体行业中清洗工艺的重要性。

  1、概况:一定频率范围内的声波作用于液体介质内可起到清洗工件的作用,这一清洗技术自问世以来,受到了各行各业的普遍关注。超声波清洗的运用极大地提高了工作效率和清洗效果,以往,清洗死角、盲孔和难以触及的藏污纳垢一直使人们备感茫然,超声波清洗的开发和运用使这一工作变得轻而易举。近年来,随着电子技术的日新月异,超声波清洗也同我们日常工作密不可分,超声波清洗机经过了几代的演变,技术更加,效果更加显著,同样,它的价格也越来越多的所接受,在各行各业中逐渐被广泛运用。超声波是以每秒4万6千次的振动在液体中传导,由于超声波是一种压缩纵波,在推动介质的使用下会使液体中压力变化而产生无数微小真空气泡,造成空穴效应,当气泡受压爆时,会产生强大的冲击力,同时超声波还有乳化中和作用能更有效防止被清洗掉的油污重新附在被清洗物体上。

  2、应用范围:在所有的清洗方式中,超声波清洗是效率、效果的一种,之所以超声波清洗能够达到如此的效果,是与它独特的工作原理和清洗方法密切相关的。我们知道,在生产和生活当中,需要清洁的东西很多,需要清洗的种类和环节也很多,如:物件的清除污染物,疏通细小孔洞,常见的手工清洗方法对异型物件以及物件隐蔽处无疑无法达到要求,即使是蒸汽清洗和高压水射流清洗也无法满足对清洁度较高的需求,超声波清洗对物件还能达到杀灭细菌、溶解有机污染物、防止过腐蚀等,因此,超声波清洗被日益广泛应用于各行各业:

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